YNG纳米二氧化硅抛光液(CMP)
我公司纳米二氧化硅抛光液是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。可生产不同粒度(10~150 nm)的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
产品的特点:
1. 高抛光速率,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的(可以生产150 nm)
2. 粒度可控,根据不同需要,可生产不同粒度的产品(10-150 nm)
3. 高纯度(Cu2+含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污
4. 高平坦度加工,本品抛光是利用SiO2的胶体粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工
抛光液基本性质
碱性型号(pH:9.8±0.5) | YNG-20 | YNG-40 | YNG-60 | YNG-80 | YNG-100 | YNG-120 |
酸性型号(pH:2.8±0.5) | YNG-A20 | YNG-A40 | YNG-A60 | YNG-A80 | YNG-A100 | YNG-A120 |
粒径(nm) | 10~30 | 30~50 | 50~70 | 70~90 | 90~110 | 110~130 |
外观 | 乳白色或半透明液体 | |||||
比重 | 1.15±0.05 | |||||
组成 | 成份 | 含量(w%) | ||||
SiO2 | 15~30 | |||||
Na2O | ≤0.3 | |||||
重金属杂质 | ≤50 ppb |
抛光液组成
成份 | 含量(w%) |
SiO2 | 15~30 |
Na2O | ≤0.3 |
重金属杂质 | ≤50 ppb |
抛光参数(参考值)
抛光压力 | 150~250 g/cm2 |
抛光温度 | 32~40 ℃ |
稀 释 率 | <1:1~20 |
抛光时间 | 3~6 min |
注:本抛光参数只适用于硅片的抛光。
包 装:500 ml/瓶,25 Kg/桶,或200 Kg/桶。
储 存:储存温度0~35 ℃,在0 ℃以下因产生不可再分散凝胶而失效,温度高于35 ℃条件下储存会促使微生物生长和加速凝胶化,缩短储藏期。上述条件下碱性抛光液可存放两年左右,酸性抛光液可存放半年左右。
应用范围:
1、硅晶圆片抛光;锗片抛光;砷化镓抛光;磷化铟抛光;光学晶体抛光;蓝宝石衬底抛光;LED衬底抛光;
2、硒化锌抛光;光纤连接器抛光;光纤跳线抛光;玻璃抛光;石英抛光,CMP抛光液;
LED行业 光学晶体 光通信 电子行业
东莞市研尔化工科技有限公司 © 版权所有 粤ICP备19086068号
联系人:徐先生 手机:13509231586 电话:0769-23121238
地址:东莞市松山湖园区学府路1号集成电路创新中心6栋320室
传真:0769-22684056 邮箱:ynrchem@126.com
技术支持:优速网络 工厂地址:增城石滩镇江龙大道北
工厂地址:东莞市寮步镇石步工业园成业路1号
金属加工清洗与防护/电子与SMT清洗/手机制造加工化学/碳氢清洗剂
扫一扫,咨询更多