光学零件抛光简介

光学零件的抛光是获得光学表面最主要的工序。其目的:一是去除精磨的破坏层,达到规定的表面质量要求;二是精修面形,达到图纸要求的光圈和局部光圈,最后形成透明规则的表面。

 

抛光的过程是十分复杂的。关于光学玻璃抛光的机理,很早就引起人们的重视,特别是迈半个世纪以来,各国对抛光机理的研究,提出了许多见解。但是,在20世纪30年代以前所流行的学说,具有明显的假设性质,这是由于研究抛光现象所需的仪器设备超出光学显微镜之外的缘故。此后,随着科学的发展,出现了电子显微镜、表面轮廓仪,以及相关技术的改进,特别是固体表面化学的提出,对研究玻璃表面的结构是极大的推动。自1950年以后,许多国家都进行了大量的实验研究。迄今为止,关于抛光的本质,虽然还没有一个统一看法,但大致可以归纳为三种理论:

 

机械磨削理论

 

化学作用理论

 

热的表面流动理论。

 

看来,三种理论在不同程度上都有一定的正确性。基于三者的综合作用又提出第四种看法：

 

即抛光的本质是机械、化学和物理三种作用的错综复杂的过程。这种综合性的观点,现在已被越来越多的人所承认。

 

研尔为您提供表面处理的化工技术解决方案和及相应的产品服务，主要：助焊剂清洗剂,PCBA电路板保护胶,锂电池铝片清洗剂,光学玻璃清洗剂,锂电池镍片清洗剂,焊接前清洗剂,铝合金钝化液,铝合金无铬钝化液,镍材钝化液,其它新型行业清洗剂，有自已的科研实验配套设备和一支优秀的化工科研队伍,切实地解决了众多客户的各种实际工艺困难和需求,帮助客户提升了产品档次,解决了他们转型升级和迅速发展中的后顾之忧，获得了业界良好的声誉和口碑，我们只专注于表面处理，专业成就卓越！联系电话：13509231586.